压力对电弧源喷射微粒密度及膜沉积率的影响

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张世良, 陈鹏, 胡永年, 等. 压力对电弧源喷射微粒密度及膜沉积率的影响[J]. 真空与低温, 1990, (2): 23-26.

引用本文:

张世良, 陈鹏, 胡永年, 等. 压力对电弧源喷射微粒密度及膜沉积率的影响[J]. 真空与低温, 1990, (2): 23-26.

摘要: 在2.7 Pa至2.7×10^-2Pa氮压力范围,测量了不同压力下电弧源喷射的微粒密度及薄膜沉积速率的变化。随压力升高,微粒密度及膜沉积速率下降。利用AES和SIMS对不同压力下形成的TiN膜及工作后的阴极表面进行了深度剖面分析。最后对实验结果进行了讨论。
- 真空镀膜 ;
- 电弧镀 ;
- 沉积速率

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