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薄膜的光化学气相沉积

彭英才

彭英才. 薄膜的光化学气相沉积[J]. 真空与低温, 1991, 10(2): 20-27.
引用本文: 彭英才. 薄膜的光化学气相沉积[J]. 真空与低温, 1991, 10(2): 20-27.
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薄膜的光化学气相沉积

  • 河北大学电子系 071002

摘要

    摘要
  • 摘要: 光化学气相沉积(光CVD)是一种继低压化学气相沉积(LPCVD)和等离子体化学气相沉积(PECVD)之后的又一项新的低温成膜工艺。首先介绍了光化学气相沉积的物理基础,然后重点介绍了光化学气相沉积的实验方法,最后简要介绍了光化学气相沉积在薄膜制备中的一些应用。
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  • 收稿日期:  1991-01-06

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