工作在放电环境中的石英晶体膜厚监控仪

工作在放电环境中的石英晶体膜厚监控仪

胡炳森, 邱家稳

文章导航 > 真空与低温 > 1988 > (2) : 25-29.

胡炳森, 邱家稳. 工作在放电环境中的石英晶体膜厚监控仪[J]. 真空与低温, 1988, (2): 25-29.

引用本文:

胡炳森, 邱家稳. 工作在放电环境中的石英晶体膜厚监控仪[J]. 真空与低温, 1988, (2): 25-29.

工作在放电环境中的石英晶体膜厚监控仪

兰州物理研究所

计量
- 文章访问数: 1
- HTML全文浏览量: 0
- PDF下载量: 0
出版历程
- 收稿日期: 1987-10-19

摘要: 石英晶体胰厚监控仪已广泛应用于蒸发镀膜,离子刻蚀厚度的精细控制和真空系统污染监测等方面.但一般的石英晶体膜厚监控仪使用的蒸发型探头却不能在溅射系统放电区中正常工作.实践表明,在溅射系统中,由阴极靶发射的二次电子碰撞测量晶体而引起的热应力是导致石英晶体膜厚监控仪测量失效的主要原因.为此,对测量探头做了改造,设计了一种带偏转磁场的溅射型测量探头,使石英晶体膜厚监控仪能在平面直流磁控溅射镀膜系统中稳定地作原位置膜厚监控.为了对测量计算公式进行修正,用实验确定了修正因子.
- 晶体 ;
- 复层厚度测量 ;
- 电气试验

参考文献(0)

资源附件(0)

计量

文章访问数: 1
HTML全文浏览量: 0
PDF下载量: 0
被引次数: 0

/

下载: 全尺寸图片幻灯片

分享

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

返回

x 关闭永久关闭