聚变装置第一壁真空等离子喷涂B4C涂层研究

陈俊凌, 梁荣庆, 隋毅峰, 何也熙

陈俊凌, 梁荣庆, 隋毅峰, 等. 聚变装置第一壁真空等离子喷涂B4C涂层研究[J]. 真空与低温, 1999, 5(3): 162-166.
引用本文: 陈俊凌, 梁荣庆, 隋毅峰, 等. 聚变装置第一壁真空等离子喷涂B4C涂层研究[J]. 真空与低温, 1999, 5(3): 162-166.
CHEN Junling, LIANG Rongqing, SUI Yifeng, et al. STUDY ON B4C COATINGS BY VACUUM PLASMA SPRAYON THE FIRST WALL OF FUSION DEVICES[J]. VACUUM AND CRYOGENICS, 1999, 5(3): 162-166.
Citation: CHEN Junling, LIANG Rongqing, SUI Yifeng, et al. STUDY ON B4C COATINGS BY VACUUM PLASMA SPRAYON THE FIRST WALL OF FUSION DEVICES[J]. VACUUM AND CRYOGENICS, 1999, 5(3): 162-166.

聚变装置第一壁真空等离子喷涂B4C涂层研究

详细信息
    作者简介:

    陈俊凌,男,1965年10月生于安徽省肥西县。1984年入大学直至1991年3月毕业于哈尔滨工业大学机械工程系,获工学硕士学位,同年工作于中国科学院固体物理所。1997年进入中国科学院等离子体物理所攻读博士学位,现正从事核聚变装置第一壁材料及涂层工艺研究。

  • 中图分类号: TB79;TB61+2;O646.9

STUDY ON B4C COATINGS BY VACUUM PLASMA SPRAYON THE FIRST WALL OF FUSION DEVICES

  • 摘要: B4 C涂层提供了低Z (原子序数)和稳定的耐熔表面。在不锈钢和铜合金基片上直接采用真空等离子喷涂法实现200 μm~300 μm厚的B4 C涂层,是一种经济、快速且有效的第一壁制造工艺。通过对影响B4 C涂层质量的诸多工艺参数进行优化,在温度和气氛可控的条件下实现抗热冲击性能良好的B4 C涂层。该涂层适于作为核聚变装置第一壁耐等离子冲刷的保护涂层。
    Abstract: B4C coating can provide low Z and stable refractory surface.B4C coating with the thickness of 200 300 μm was processed by vacuum plasma spray(VPS) on the substrates of stainless steel and copper alloy,which is an econmical and more efficient technology.By optimizing the spraying parameters of B4C deposit,a satisfactorily thermal shock resistance was obtained under the controlled temperature and atmosphere,which is suitable for plasma erosion protective purposes in nuclear fusion device.
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出版历程
  • 收稿日期:  1999-04-25

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