高压力四极质谱计在镀膜中的应用

高压力四极质谱计在镀膜中的应用

康小录, 胡炳森

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康小录, 胡炳森. 高压力四极质谱计在镀膜中的应用[J]. 真空与低温, 1992, 11(1): 24-27.

引用本文:

康小录, 胡炳森. 高压力四极质谱计在镀膜中的应用[J]. 真空与低温, 1992, 11(1): 24-27.

高压力四极质谱计在镀膜中的应用

兰州物理研究所 730000

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出版历程
- 收稿日期: 1991-12-08

摘要: 磁控溅射镀膜过程中的气氛组分及其分压力分布是决定膜质量的重要因素。本文用本所研制的高压力四极质谱计(HPQMS)对磁控溅射镀银过程的原位气氛进行了应用性研究。结果表明:这种高压力四极质谱计可对镀膜过程的气氛进行原位分析,并可以用它研究溅射镀膜中的二次反应过程和控制界面质量,特别是对有油系统的气体原位分析能监控和稳定镀膜的工艺。
- 四极质谱计 ;
- 残余气体分析 ;
- 真空镀膜 ;
- 磁控溅射

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