反应直流磁控溅射放电的电流—电压特性

反应直流磁控溅射放电的电流—电压特性

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胡炳森, 常天海, 王滨. 反应直流磁控溅射放电的电流—电压特性[J]. 真空与低温, 1990, (2): 7-10.

引用本文:

胡炳森, 常天海, 王滨. 反应直流磁控溅射放电的电流—电压特性[J]. 真空与低温, 1990, (2): 7-10.

摘要: 从理论和实验上深入研究了反应直流磁控溅射放电的电流-电压特性。指出,利用此特性可以判别反应直流磁控溅射过程中靶面状态的变化,从而达到稳定成膜工艺的目的。最后根据结果给出了几点实验结论。
- 真空镀膜 ;
- 溅射 ;
- 放电

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