碲镉汞材料及工艺控制的分析方法

杨得全, 范垂祯

杨得全, 范垂祯. 碲镉汞材料及工艺控制的分析方法[J]. 真空与低温, 1993, 12(4): 191-197.
引用本文: 杨得全, 范垂祯. 碲镉汞材料及工艺控制的分析方法[J]. 真空与低温, 1993, 12(4): 191-197.

碲镉汞材料及工艺控制的分析方法

  • 摘要: 随着碲镉汞红外器件的小型化、高品质化和性能的提高,对原材料的纯度、器件工艺质量控制方法提出了更高的要求。就分析方法而言,不仅要求有高的定量分析精度,同时要求分析方法对杂质元素的分析范围广(多元素分析)、元素的探测灵敏度高。对器件工艺控制分析来说,除了基体元素成分、杂质元素的定量分析外,还要求分析方法能在横向和纵向分析,并有相当的空间分辨率。就上述要求给出了碲镉汞材料提纯、CMT (碲镉汞,CdxHg1-xTe)晶体生长及器件工艺控制分析的主要分析技术方法、特点及其进展。讨论了基体元素定量分析的精度,痕量元素定量分析的能力、灵敏度及其进行深度剖面分析的深度分辨率。
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出版历程
  • 收稿日期:  1993-06-28

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