真空镀膜玻璃技术的新成就

真空镀膜玻璃技术的新成就

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陈晓东. 真空镀膜玻璃技术的新成就[J]. 真空与低温, 1999, 5(4): 229-232.

引用本文:

陈晓东. 真空镀膜玻璃技术的新成就[J]. 真空与低温, 1999, 5(4): 229-232.

CHEN Xiaodong. NEW ACHIEVEMENT IN THE FIELD OF TECHNOLOGY ABOUT COATED GLASS WITH MAGNETRON SPUTTERING[J]. VACUUM AND CRYOGENICS, 1999, 5(4): 229-232.

Citation:

CHEN Xiaodong. NEW ACHIEVEMENT IN THE FIELD OF TECHNOLOGY ABOUT COATED GLASS WITH MAGNETRON SPUTTERING[J]. VACUUM AND CRYOGENICS, 1999, 5(4): 229-232.

真空镀膜玻璃技术的新成就

陈晓东

沈阳金博真空工程有限公司沈阳 110014

详细信息

作者简介:
陈晓东，男，1965年2月生。1987年毕业于东北工学院真空系。沈阳金博真空工程有限公司总工程师。现从事玻璃镀膜生产线的设计，安装和调试工作。美国BOCCT授权备件销售及售后服务代理。

中图分类号: O462;O484
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出版历程
- 收稿日期: 1999-05-31

NEW ACHIEVEMENT IN THE FIELD OF TECHNOLOGY ABOUT COATED GLASS WITH MAGNETRON SPUTTERING

CHEN Xiaodong

Shenyang Gem-Port Vacuum Engineering Co.,Ltd,Shenyang 110014

摘要: 孪生磁控和旋转磁控阴极相对于平面磁控阴极的优势及对镀制Low-E膜及ITO膜的贡献
- 孪生及旋转磁控阴极 ;
- Low-E ;
- ITO ;
- 真空通道
Abstract: In this paper,low-E and ITO films prepared by using the advantage of the twinmag and c-mag cathode are discussed and compared to planar magnetron cathode
- twinmag and c-mag cathode /
- low-E /
- ITO /
- vacuum channel

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