真空与低温 1989年 4期

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沉痛悼念金建中同志

1989(4): 1-2.

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电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布

张世良, 陈鹏, 洪惠荫, 胡永年, 孙玉珠, 任妮, 翟晓明

1989(4): 3-5.

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LSA—1型电弧离子镀膜机

洪惠荫, 胡永年, 张世良, 孙玉珠, 任妮, 瞿晓明

1989(4): 6-7.

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比对校准及参考规

刘强

1989(4): 8-13,5.

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碳化硅的XPS和AES分析

于志战

1989(4): 14-16.

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盒形不锈钢真空室壳体设计与制造

刘玉魁

1989(4): 17-22.

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真空标准之间的相互比对

李旺奎, 李得天

1989(4): 22-26.

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真空模拟容器中热流方程和热模拟误差的分析

达道安, 达晓冬, 陈隆智

1989(4): 27-31.

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气体脱附机理的物理解释

孙大明, 汪德全

1989(4): 32-39.

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表面物理研究的进展

杨得全, 范垂祯

1989(4): 39-47.

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共挤压成形99.99%铝6063合金电子束室

余镇江

1989(4): 47-50.

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钛、锆、铝的二元、三元和四元氮化物工业镀膜

张振厚

1989(4): 51-55.

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真空高压气淬炉设计与应用的进展

王宝霞, 梅永红

1989(4): 56-61.

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日本发现能发光的超导体

1989(4): 61-61.

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ECR等离子体处理技术

张一鸣

1989(4): 62-67.

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表面强化技术

1989(4): 67-67.

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1989年全国青少年真空科技夏令营在无锡举行

陈隆智

1989(4): 68-70.

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分离冷凝性气体的陶瓷膜

1989(4): 70-70.

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