真空与低温 1986年 3期

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危险气体监测系统的设计和研制

曾凡永

1986(3): 1-5.

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LSK-Ⅲ型离子束刻蚀机自动控制器

金立方, 徐兰英

1986(3): 6-9.

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一种真空设备的微型计算机数据采集和自动控制系统

高怀珍, 邵德山

1986(3): 10-17.

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新型的电子束偏转电离规

李旺奎, 张舟

1986(3): 18-22,17.

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国产5A分子筛在液氮温度下对N₂H₂、He低压吸附等温线测试

毕龙生, 强游

1986(3): 23-28,9.

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影响医用四极质谱计稳定度的因素

王荣宗, 杨士伟, 金则庚, 曾克仁, 王滨, 刘秀云

1986(3): 29-32.

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真空环境下汞污染的防护

王毓凤

1986(3): 33-34,42.

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医用质谱计的若干进展

金则庚

1986(3): 35-42.

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影响超高真空获得的主要因素

贺贤能

1986(3): 43-49.

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等离子体与气体放电

李学丹

1986(3): 50-52,54.

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维通氟橡胶低温下的密封特性

蔡树铭

1986(3): 53-54.

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我国粗低真空获得设备发展状况及水平预测

贺陵

1986(3): 55-58.

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真空测量的现状与发展预测

白鹤翔

1986(3): 59-63.

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真空技术在微电子学、生物学中的应用预测

孙大明

1986(3): 63-64.

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真空技术在农业领域中的应用和发展

赵景柏

1986(3): 65-70.

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激光在薄膜生成中的应用

1986(3): 70-71.

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光记录合金

1986(3): 70-70.

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用离子注入提高钛合金人造关节的使用寿命

1986(3): 70-70.

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软盘介质采用蒸镀锗和钴铬工艺

1986(3): 71-72.

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用真空蒸镀法制备垂直记录带

1986(3): 71-71.

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激光修改化学气相沉积掩模技术

1986(3): 72-73.

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大规模太阳能发电的新技术

1986(3): 72-72.

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金属铝表面制备氮化铝薄膜

1986(3): 72-72.

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LPMOCVD法生长InP、GaInAs和GaInAsP

1986(3): 73-73.

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控制原子层形成生长单晶硅

1986(3): 73-74.

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真空冷冻洗纸机

1986(3): 74-74.

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宇宙空间的金属实验

1986(3): 74-74.

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光学膜的新应用

1986(3): 74-75.

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先进的生物材料冻结设备

1986(3): 75-76.

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请您订阅《低温与超导》杂志

1986(3): 76-76.

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